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　3月26日-28日，中國(guó)新的獨(dú)角獸半導(dǎo)體設(shè)備製造商——深圳新凱來(lái)工業(yè)機(jī)器有限公司在SEMICON China 2025上首次亮相就發(fā)布了5款工藝設(shè)備新品，包括外延沉積設(shè)備EPI（峨眉山）、原子層沉積設(shè)備ALD（阿里山）、物理氣相沉積設(shè)備PVD（普陀山）、刻蝕設(shè)備ETCH（武夷山）、薄膜沉積設(shè)備CVD（長(zhǎng)白山）。受此消息鼓舞，新凱來(lái)相關(guān)股票連續(xù)飆升，其中至純科技（603690.SH）27日、28日連續(xù)兩天漲停板。

　「光刻機(jī)」作為芯片製造的核心設(shè)備之一被譽(yù)為「半導(dǎo)體皇冠上的明珠」。近年來(lái)，隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的快速發(fā)展，對(duì)芯片的需求呈現(xiàn)出爆炸式增長(zhǎng)，且對(duì)芯片的性能要求越來(lái)越高。

　新凱來(lái)量檢測(cè)設(shè)備產(chǎn)品線負(fù)責(zé)人酈舟劍接受此間媒體採(cǎi)訪時(shí)表示，目前首要解決的還是半導(dǎo)體先進(jìn)制程的製造問(wèn)題，這方面，國(guó)外工藝節(jié)點(diǎn)還是領(lǐng)先的，但他有信心，新凱來(lái)開發(fā)的半導(dǎo)體系列製造設(shè)備能夠追上，據(jù)悉，新凱來(lái)提供的設(shè)備已能部分解決5納米先進(jìn)芯片的製備。

　此前，有國(guó)外專業(yè)分析指，新凱來(lái)採(cǎi)用新光源技術(shù)路線避開了ASML的壁壘，可以完成利用落後的DUV設(shè)備製備出5nm的先進(jìn)制程工藝芯片，並猜測(cè)華為手機(jī)推出的新麒麟芯片採(cǎi)用了這種方法。不過(guò)，從新凱來(lái)此次亮相的多款設(shè)備及有關(guān)負(fù)責(zé)人接受媒體採(cǎi)訪時(shí)的發(fā)言可看出，新凱來(lái)在半導(dǎo)體設(shè)備製造領(lǐng)域，遠(yuǎn)比想象中走的更遠(yuǎn)，其幾乎從底層重構(gòu)了半導(dǎo)體設(shè)備製備的整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈，並有可能通過(guò)新的技術(shù)方法探索並走出一條半導(dǎo)體先進(jìn)芯片製備的新路徑。

　新凱來(lái)技術(shù)有限公司成立於2021年8月，由深圳市國(guó)資委100%持股。官網(wǎng)提到，新凱來(lái)致力於半導(dǎo)體裝備及零部件、電子製造設(shè)備的研發(fā)、製造、銷售與服務(wù)，公司核心團(tuán)隊(duì)具備20年以上電子設(shè)備技術(shù)開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，並聯(lián)合了眾多國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體製造設(shè)備和零部件合作夥伴，「將國(guó)內(nèi)最優(yōu)秀的電子製造解決方案和生產(chǎn)測(cè)試裝備推介給行業(yè)客戶，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)能力提升?！?/p>

　其子公司新凱來(lái)工業(yè)機(jī)器有限公司成立于2022年，截止到目前的3年時(shí)間中，已攻克與半導(dǎo)體製備、檢測(cè)等相關(guān)的13類關(guān)鍵產(chǎn)品，核心零部件100%國(guó)產(chǎn)化。據(jù)悉，這些設(shè)備直指 7nm 以下先進(jìn)制程，其中 ALD 「阿里山」 設(shè)備更是挑戰(zhàn)國(guó)際巨頭壟斷的 5nm 以下原子層沉積技術(shù)。

　天眼查顯示，新凱來(lái)工業(yè)公司和新凱來(lái)技術(shù)公司有超過(guò)80項(xiàng)發(fā)明專利和實(shí)用新型，覆蓋光學(xué)、材料、工藝控制等關(guān)鍵環(huán)節(jié)。